12. [일렉트리카 비야르]
전격 팔찌를 활용하는 마법 캐릭터 [키스]의 [일렉트리카 비야르] 스탠스가 조정될 예정입니다.
마법 스탠스 제작에 있어 규정된 내부 개발 룰과 비교하였을 때 해당 스탠스는 [넓은 범위], [긴 사거리], [짧은 캐스팅], [짧은 재사용 대기시간], [비교적 높은 대미지] 등 종합적인 면에서 많은 문제점이 있다고 판단하였습니다.
이에 개발팀은 [일렉트리카 비야르]를 아래와 같이 변경하고자 합니다.
- <레볼루시온> : 디버프 [감전] 확률 감소, 스킬 대미지 감소
- <부엔티로> : 재사용 대기 시간 증가, 스킬 폭 및 사거리 감소 조정, 스킬 대미지 감소
- <리플렉시온> : 재사용 대기 시간 감소
- <일렉트리코> : 최대 사거리 감소, 범위 감소, 재사용 대기 시간 증가, 스킬 대미지 감소
- <라스 루체스> : 최대 사거리 감소, 범위 감소, 스킬 대미지 감소
- <이미지너리 포인트> : 레벨당 공격력 증가폭 상승, 몬스터 타격 대미지 증가